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SENTECH SIPAR ICP沉積系統(tǒng)是為使用靈活的系統(tǒng)架構(gòu)的各種沉積模式和工藝開發(fā)和設(shè)計的。該工具包括 ICP 等離子體源 PTSA、一個動態(tài)溫控基板電極和一個受控的真空系統(tǒng)。該系統(tǒng)將等離子體增強化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 和原子層沉積 （ALD） 結(jié)合在一個反應(yīng)器中。

SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 系統(tǒng)，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。

SENTECH SI 500 CCP 系統(tǒng)使用動態(tài)溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設(shè)置和穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)。具有動態(tài)溫度控制功能的襯底電極與氦氣背面冷卻和晶圓背面溫度傳感相結(jié)合，可在很寬的溫度范圍內(nèi)提供出色的工藝條件。

鈣鈦礦專用涂膜機(jī)，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準(zhǔn)控制移動速率，提高涂膜重復(fù)性?？蛇x配多種涂膜工具，適應(yīng)不同需求。風(fēng)刀角度與高度可調(diào)，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。

DM200-SE全封閉式桌面顯影機(jī)的特點包括： 全封閉式顯影：有效避免顯影過程中產(chǎn)生的霧氣擴(kuò)散到外部，從而保護(hù)環(huán)境免受污染。 外殼噴塑處理：外殼采用噴塑工藝，不僅耐腐蝕，還易于清洗，保持設(shè)備整潔。 內(nèi)腔特氟龍涂層：內(nèi)腔表面鍍有特氟龍，表面光滑且耐腐蝕，同時易于清潔，確保顯影效果。 內(nèi)置真空過濾器：配備真空過濾器，有效防止液體被吸入真空泵，保護(hù)設(shè)備免受損壞。 真空壓力可調(diào)：用戶可根據(jù)需要調(diào)整真空壓

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。