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7234劃片機(jī)是一款高精度的半導(dǎo)體切割設(shè)備,主要用于晶圓或其他材料的切割加工。它配備了4英寸的空氣軸承主軸,采用直流無(wú)刷電機(jī)驅(qū)動(dòng),轉(zhuǎn)速高達(dá)30krpm,能夠兼容4-5英寸的刀片。該設(shè)備能夠覆蓋最大直徑為300毫米或253mmX243mm的方形產(chǎn)品,具有高效、精確的切割能力
等離子體沉積ALD AD-230LP是一種原子層沉積(ALD)系統(tǒng),能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機(jī)金屬原料和氧化劑交替供給反應(yīng)室,僅通過(guò)表面反應(yīng)進(jìn)行薄膜沉積。該系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定室,且不向大氣開(kāi)放反應(yīng)室,因此能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜沉積的優(yōu)良再現(xiàn)性。
由德國(guó)UNITEMP研發(fā)的等離子清洗和加熱機(jī),最大零件裝載面積:305 mm x 305 mm(最大零件高度為 25 mm)。
6110是一款高精度、高性能單軸半自動(dòng)劃片機(jī),機(jī)身寬度490mm,占地面積小,結(jié)合全新設(shè)計(jì)的操作系統(tǒng),提供高效、低使用成本的切割體驗(yàn)。
SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器是一種經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的光學(xué)診斷工具,可實(shí)現(xiàn)單個(gè) ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應(yīng)用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率、厚度、折射率以及蝕刻速率),在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝,以及實(shí)時(shí)研究 ALD 和 ALE 周期期間的反應(yīng)機(jī)理。