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RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個(gè)反應(yīng)室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)。標(biāo)準(zhǔn)配置有空氣盒和晶圓邊緣保護(hù)環(huán)，以及高精度的晶圓對(duì)準(zhǔn)器。該高性能系統(tǒng)能夠進(jìn)行高長(zhǎng)寬比加工（超過(guò)100）和低扇形加工，同時(shí)保持高蝕刻率和抗蝕劑選擇率。
更新時(shí)間：2024-09-06
型號(hào)：RIE-802BCT
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
瀏覽量：382
ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機(jī)，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：ELEDE® 380系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：516
GDE C200系列 高密度 刻蝕機(jī)，等離子體源和頻率設(shè)計(jì)，等離子體密度高，適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：GDE C200系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：824
NMC 508系列 ICP刻蝕機(jī)是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機(jī)，具有高精度、高選擇性和高效率等特點(diǎn)。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子制造、光電子制造等領(lǐng)域，特別是在集成電路、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、光電子器件等制造過(guò)程中發(fā)揮著重要作用。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：NMC 508系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：343
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機(jī)，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：NMC 612G廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：632
NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)，多頻解耦設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：NMC 508系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：388
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