有掩膜光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專(zhuān)為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 410 x 410 mm++2.應(yīng)用包括 MEMS 掩模制造、先進(jìn)封裝、3D 集成、LED 和 OLED 掩模以及微流體。

VPG 具有經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器。其技術(shù)將高分辨率、準(zhǔn)確性和出色的圖像質(zhì)量與高吞吐

產(chǎn)品型號(hào)：VPG 200 / VPG 400
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
更新時(shí)間：2024-09-04
訪問(wèn) 量： 561

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詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述：

VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，大尺寸為 410 x 410 mm++2.

寫(xiě)入模式	I-QX系列	一代	二代	三代
寫(xiě)作表現(xiàn)
小結(jié)構(gòu)尺寸 [μm]	0.75	0.75	1	2
小行數(shù)和間距 [μm]	1.5	1.5	2	4
地址網(wǎng)格 [nm]	12.5	12.5	25	50
邊緣粗糙度 [3σ， nm]	30	40	50	70
CD均勻度 [3σ， nm]	55	65	75	110
拼接穩(wěn)定性 [3σ， nm]	30	60	70	100
第 2 層對(duì)準(zhǔn) [nm]	225	225	350	500
寫(xiě)入速度 [mm2/min]	485	970	3150	6400
100 x 100 mm 的曝光時(shí)間2面積 [min]	28	14	5.6	3.5

系統(tǒng)特點(diǎn)
光源	355 nm 的高功率 DPSS 激光器
大基板尺寸	9 英寸 x 9 英寸/17 英寸 x 17 英寸
基板厚度	0 至 12 mm （可根據(jù)要求提供其他厚度）
大曝光面積	205 x 205 毫米2/ 410 x 410 毫米2
自動(dòng)對(duì)焦	實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)（光學(xué)和氣動(dòng)）
自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償范圍	高達(dá) 80 μm
流量箱	（閉環(huán)）溫控環(huán)境試驗(yàn)箱
對(duì)準(zhǔn)	用于測(cè)量和對(duì)準(zhǔn)的相機(jī)系統(tǒng)和軟件包
其他功能和選項(xiàng)	2D載物臺(tái)貼圖和數(shù)據(jù)、Mura校正、邊緣檢測(cè)器、多種數(shù)據(jù)輸入格式（DXF、CIF、GDSII、Gerber等）、可選的自動(dòng)掩模處理、可選的Zerodur®載物臺(tái)和特殊卡盤(pán)

系統(tǒng)尺寸
	系統(tǒng) / 電子機(jī)架
寬度 [mm]	2605 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3550 / 180

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5 %， 50/60 Hz， 16 A， 3 相
壓縮空氣	6 - 10 巴