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無掩模光刻機

簡要描述:μMLA無掩模光刻機是優(yōu)良的無模板技術,建立在著名的 μPG 平臺之上,該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:μMLA
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 301

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述:

臺式 μMLA 系統(tǒng)是優(yōu)良的無模板技術,建立在的 μPG 平臺之上,該平臺是全球高的臺式無模板系統(tǒng)。它是一款入門研發(fā)(R&D)工具,幾乎適用于任何需要微結構的應用。典型的例子有微流控(細胞分選裝置、芯片實驗室)、小規(guī)模掩模寫入、微光學和微透鏡陣列、傳感器、MEMS、接觸式二維材料和扇出電等。

μMLA是一種靈活且可定制的工具,并提供兩種曝光模式。標準μMLA使用光柵掃描曝光模式進行曝光,該模式速度快,可提供出色的圖像質(zhì)量和保真度,而寫入時間與圖案密度的結構大小無關??蛇x的矢量掃描模式旨在以更快、更準確的方式對連續(xù)平滑的曲線(如波導)進行圖案化。三種光學設置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換,以優(yōu)化給定應用的曝光。拉伸模式可以對現(xiàn)有結構進行直接的臨時修改,并可以與納米線或 2D 材料進行電接觸?;叶绕毓饽J皆试S創(chuàng)建復雜的 2.5 結構,例如微光學設備。μMLA占地面積小,可放在普通桌子上。


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