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簡(jiǎn)要描述：HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺(tái)裝機(jī)量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái).可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
產(chǎn)品型號(hào)：HORIC L200 系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-09-05訪 問 量： 444產(chǎn)品分類
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1. 產(chǎn)品概述
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺(tái)裝機(jī)量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái)。可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
2. 設(shè)備用途/原理
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺(tái)裝機(jī)量大。可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái)。高可靠性、穩(wěn)定性 Higher reliability and stability。安全性能高：設(shè)備及所使用的元件符合國(guó)標(biāo)和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案。優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 4、6、8 英寸，適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵。適用工藝 氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃。適用域 科研、化合物半導(dǎo)體。
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